Titan kremniy tekislikdagi purkash maqsadlari

Titan kremniy planar purkash maqsadlari tavsifi

Titan silisidi noorganik birikma bo'lib, odatda mahalliy tranzistor ulanishlarining varaq qarshiligini kamaytirish uchun kremniy va polisilikon liniyalarida silisid texnikasidan foydalangan holda ishlab chiqariladi. Titanium Silicon Planar Puttering maqsadlari odatda yuqori qattiqlik, past aşınma, mukammal termal zarba qarshiligi, yuqori tozalik, nozik va bir xil don, uzoq xizmat muddati, yuqori oksidlanish qarshiligi va yuqori qoplama kabi bir qator afzalliklarga ega bo'lgan ilg'or HIP texnologiyasi tomonidan ishlab chiqariladi. sifat. Titanium Silicon Planar Puttering Targets metall qoplama uchun ajoyib materialdir. U bilan qoplangan apparat asboblari juda aşınmaya bardoshli, shuning uchun ular yuqori kesish tezligida ishlashlari va hatto juda qattiq nikel qotishmalari va titaniumli materiallarni qayta ishlashlari mumkin. Titanium Silicon Planar Sputtering Targets, shuningdek, yarimo'tkazgich sanoati, bezak, displey, LED va fotovoltaik qurilmalar, shisha qoplama va boshqa sohalarda qo'llanilishi uchun juda mos keladi.

Titan kremniy planar püskürtme maqsadlari xususiyatlari:

Titan kremniy planar püskürtme maqsadlari rasmlari:

Issiq teglar: titan kremniy planar püskürtme maqsadlari, etkazib beruvchilar, ishlab chiqaruvchilar, zavod, moslashtirilgan, ulgurji, narx, kotirovka, sotuvda